湿法清洗台,清洗,苏州晶淼半导体 查看

清洗的注意事项：

(1)关机重启后，时间间隔1分钟以上，否则可能会造成电气损坏；

(2)设备运行中，注意去离子水流量不得**过允许值，湿法清洗机，否则可能由于排放受阻而造成机器损坏；

(3)每次运行完毕后取出片子时，湿法清洗台，注意卡塞口是否朝上，清洗，纠正后再取出，否则片子会掉出来；

(4)一旦发现水路的关联件出现“漏水”、“滴水”现象应立即关机，检修后再运行。

     就清洗媒介来说，湿法清洗仍然是现代先进晶圆清洗工艺的主力。虽然Si技术中的清洗化学材料与较初RCA的配方相差不大，但整体工艺较明显的改变包括：采用了非常稀释的溶液；简化工艺；广泛使用臭氧水。