湿法清洗机|湿法清洗机|苏州晶淼半导体 优质商家

      MEMS制造的特点是，湿法清洗机，它含有3D精细图形的深刻蚀，并要求横向深刻蚀埋层氧化物的释放加工工艺。用常规的湿法刻蚀和清洗技术是不能完成从这种非常紧密的几何图形除去可能的刻蚀残留物，并确保悬臂梁和膜片的无静摩擦操作的。已经研究用无水HF/甲醇（AHF/MeOH））牺牲层氧化物刻蚀工艺作为后者的可行解决方法。

氨水加氧化剂清洗液

 　 氨水加氧化剂清洗液配方为: NH4OH∶H2O2∶H2O=1∶10∶10~1∶20∶20，温度为25~40℃，湿法清洗机，时间10~30min。由于这种清洗液具有碱性、氧化性和络合性，可以发生氧化反应、产生微蚀刻作用，以达到去除表面颗粒的目的，可以去除一些**污染物及部分重金属离子污染物。